| 分散机类型：纳米研磨分散机 | 物料类型：油性石墨浆料 | 适用物料：油性石墨浆料 |
| 品牌：SGN | 应用领域：油性石墨浆料 | 型号：GMD2000 |
| 速度类别：无级变速 | 调速范围：0-14000r/min | 分散轮直径：55mm |
| 升降行程：0-100mm | 电机功率：2.2Kw | 产品类型：全新 |
| 变速方式：变频变速 | 速度范围：1200rpm以上 | 罐容量：0-1000L |
| 外形尺寸（长*宽*高）：450*350*750mm | 整机重量：45Kg | 规格：GMD2000/4 |
一、产品名称：油性石墨浆料纳米研磨分散机,油性石墨浆料纳米分散机,油性石墨浆料纳米研磨机,油性石墨浆料纳米胶体磨,石墨烯浆料纳米分散机
二、石墨烯浆料分类
石墨烯浆料分为两种，以水为介质分散叫水性，以NMP为介质分散叫油性，石墨烯根据石墨烯原料的不同，一般含量在2.5-5的固含量之间打成浆料，影响石墨烯分散或者剥离的因素有很多，设备的选型，分散剂的使用，固含量的把握。
三、石墨烯的主要制备方法
石墨烯主要制备方法：制备石墨烯常见的方法为机械剥离法、氧化还原法、SiC外延生长法和化学气相沉积法（CVD）。
1.机械剥离法是利用物体与石墨烯之间的摩擦和相对运动，得到石墨烯薄层材料的方法。这种方法操作简单，得到的石墨烯通常保持着完整的晶体结构，但是得到的片层小，生产效率低。
2.氧化还原法是通过将石墨氧化，增大石墨层之间的间距，再通过物理方法将其分离，然后通过化学法还原，得到石墨烯的方法。这种方法操作简单，产量高，目前国内使用氧化，还原法制作石墨烯浆料的。
3.SiC外延法是通过在超高真空的高温环境下，使硅原子升华脱离材料，剩下的C原子通过自组形式重构，从而得到基于SiC衬底的石墨烯。这种方法可以获得高质量的石墨烯，但是这种方法对设备要求较高
4.CVD也叫气相沉积法是目前很有可能实现工业化制备高质量、大面积石墨烯的方法。这种方法制备的石墨烯具有面积大和质量高的特点，国内用气相沉积法制作石墨烯浆料的如 重庆墨稀、常州第六元素等企业
四、SGN石墨烯浆料纳米研磨分散机特点
1、GMD2000研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到***，***机器连续24小时不停机运行。
2、GMD2000研磨分散机有一定输送能力，对高固含量有一定粘稠度物料，GMD2000设计了符合浆液流体特性的特殊转子，进行物料的推动输送；所有与物料接触部位均为316L不锈钢，机座采用304不锈钢；特殊要求如：硬度较大物料，对铁杂质要求严苛的物料，管道有一定压力并且需不间断运转的工况，可选磨头喷涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型胶体磨腔体外有夹套设计，可通冷却或者升温介质。
五、GMD2000系列研磨分散机的结构：
研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
***级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
***级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是***转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。
六、油性石墨浆料纳米研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
油性石墨浆料纳米研磨分散机信息来源：
