| 品牌：SGN | 型号： GMD2000 | 工作方式：创新型纳米胶体磨 |
| 类型：创新型纳米胶体磨 | 适用物料：创新型纳米胶体磨 | 应用领域：创新型纳米胶体磨 |
| 加工批量：0-1000L | 驱动功率：2.2KW | 研磨篮容量：0-1000L |
| 介质尺寸：0-100mm | 行程：0-100mm | 外形尺寸：0.45*0.35*0.75m |
| 重量：45kg | 驱动方式：创新型纳米胶体磨 | 作用对象：创新型纳米胶体磨 |
| 规格： GMD2000/4 |
一、产品名称：创新型纳米胶体磨，创新纳米胶体磨，改进型纳米胶体磨，改良型纳米胶体磨，研磨分散胶体磨，纳米研磨分散机
二、创新型纳米胶体磨简介
上海SGN新技术，独特创意，融化***理念。将SGN纳米高剪切胶体磨进行进一步的改进，在原来GM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改进成两级模块，加入了一级分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改进型的纳米胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种创新的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。
三、创新型纳米胶体磨结构
创新型胶体磨，研磨分散机，简单的来讲就是将高剪切胶体磨和高剪切分散机，合二为一了。同时具备胶体磨和分散机的功能，并且减少了胶体磨和分散机串连后的，时间差因素。从成本上来讲，原先两台设备的价格，现在用一台研磨分散机就可以完成，性价比更高。
GMD2000系列创新型胶体磨，研磨分散机的结构：研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
GMD2000系列创新型胶体磨，研磨分散设备是SGN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
四、GMD2000系列纳米创新型胶体磨特点：
① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以***制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
创新型纳米胶体磨，研磨分散机，研磨均质机，研磨乳化机，全新的设计理念，超高设备剪切力，以及稳定的设备运行，SGN为广大企业提供优质的设备服务！
